Для создания российского литографа нужно 2 - 3 года.

В РФ взялись за импортозамещение оборудования для производства 28-нм чипов: началась разработка литографических систем
Блог компании Selectel
Исследования и прогнозы в IT
*
Производство и разработка электроники
*
Компьютерное железо

Относительно недавно мы писали о том, что в России начали строить фабрику для выпуска 28-нм чипов. Тогда мы говорили, что проект разработали несколько лет назад, но к реализации приступили только сейчас.

В ходе обсуждения возник закономерный вопрос — где брать литографическое оборудование для таких чипов в текущей геополитической обстановке. Как оказалось, его уже начали разрабатывать — причем представители тех же организаций, которые затеяли строительство самой фабрики. О подробностях всего этого — под катом.

Дисклеймер. В блоге мы нередко делали и делаем обзоры зарубежных процессоров и комплектующих, реже — затрагиваем отечественное «железо». Мы аккуратны в оценках и рассуждениях о будущем отечественного ПО. Призываем и вас оставаться в беспристрастных рамках технических параметров и характеристик, мы же на Хабре

Кто разрабатывает оборудование?

В проекте задействована объединенная команда специалистов трех организаций — «Микрона», «Московского института электронной техники» (МИЭТ) и Зеленоградского нанотехнологического центра. Команда планирует создать отечественное оборудование для производства микросхем по 28-нм техпроцессу и, возможно, даже более современные чипы.

Что касается научно-исследовательской работы, то ею занимаются ученые Центра коллективного пользования «Микросистемная техника и электронная компонентная база» МИЭТ. Насколько можно судить, НИР должны быть завершены до конца 2022 года. Заказ поступил от Минпромторга в рамках госпрограммы «Развитие электронной и радиоэлектронной промышленности».

Команда довольно большая — в нее входит около 50 сотрудников МИЭТа и ЦКП «МСТ и ЭКБ», в том числе молодые кандидаты наук и аспиранты. На базе завода «Микрон» и Зеленоградского нанотехнологического центра планируется задействовать производственные возможности организаций, чтобы изготовить образцы МЭМС динамической маски.

" Это поисковый аванпроект, в ходе которого проверяется сама возможность переноса изображения при помощи МЭМС динамической маски. Мы должны показать, что система работает надёжно, пройдет все испытания и метрологические тесты. Если эта работа завершится успешно, за ним последует опытно-конструкторский проект по созданию литографической установки", заявил доктор технических наук, профессор, проректор по научной работе МИЭТ Гаврилов Сергей Александрович.

Основные задачи НИР

Представители проекта заявляют, что основная задача выполнения НИР — экспериментальная проверка основных технологических решений в области безмасочной рентгеновской нанолитографии. На первом этапе проекта планируется разработать, изготовить и протестировать макеты МЭМС динамической маски в двух вариантах.

Первый — управление коэффициента пропускания рентгеновского излучения. Второй — управление коэффициента отражения рентгеновского излучения. После изучения результатов планируется создать «технический облик» разрабатываемой литографической установки. Участники проекта заявляют о том, что на этом этапе будут выработаны и обоснованы параметры ключевых узлов системы:

• Источник рентгеновского излучения
• Оптическая система, включая МЭМС динамической маски
• Вакуумная система
• Система совмещения и позиционирования

Команда проекта изучает возможности разработки установки безмасочной рентгеновской нанолитографии с длиной волны 13,5 нм на базе синхротронного либо плазменного источника. Если проект удастся завершить, то в России появится собственное оборудование, которого в стране раньше не было.

Представители проекта заявляют, что разработка будет вестись на базе как действующих, так и запускаемых в стране синхротронов. В частности, будет использоваться синхротрон ТНК «Зеленоград», НИЦ «Курчатовский институт», плюс отечественные плазменные источники. При помощи этих технологий ученые надеются обрабатывать полупроводниковые пластины с проектными нормами 28 нм, 16 нм и ниже.

На 28-нм технологию власти планируют перейти к 2030 году. Стоит отметить, что зарубежные производители освоили 4-нм техпроцесс и понемногу реализуют планы по разработке чипов по 3-нм и 2-нм техпроцессу. Инициаторы проекта заявляют о разработке к 2030 году не менее 400 прототипов новых видов электроники и о проведении не менее 2000 научно-исследовательских работ.

Что было до 28 нм?

10 лет назад на производственных мощностях «Микрона» было запущено производство чипов по технологии 90 нм. Не сказать, чтобы проект был дешевым — на его реализацию было вложено 16,5 млрд руб., из которых «Ситроникс» и Роснано (участники проекта) инвестировали по 6,5 млрд руб., а еще 3 млрд руб. были привлечены в виде займа.

Кроме того, около года назад Минпромторг заявил о финансировании разработки российского оборудования для производства чипов по 130-65 нм техпроцессу. Т.е. речь идет о технологии, которая была прорывной около 20 лет назад. Тем не менее, во многих отраслях промышленности такие чипы используются.

Сложности и заботы

В целом, проект выглядит неплохо, но здесь есть главная проблема — если что-то пойдет не так с разработкой отечественных литографических систем, то и фабрика будет простаивать. А ее содержание обходится в сотни миллионов рублей в не зависимости от того, какой объем чипов производится.

Кроме того, многие моменты остаются неясными, включая запасы компонентов и сырья для разработки литографических систем. Как мы уже говорили, те же стекла для фотошаблонов — импортные. Кроме того, слитки, из которых нарезают кремниевые пластины — тоже импортное, да и оборудование для нарезки тоже нужно доставлять из-за рубежа.

Как бы там ни было, если все получится, то в РФ появится собственная производственная линия по выпуску чипов, которые применяют во многих отраслях промышленности. Технологии не самые новые, но их продолжают использовать.

"В рамках НЦФМ коллаборация, которую мы хотим предложить, может разработать в течение двух-трех лет такой литограф".
https://dzen.ru/a/Y3x4slbA9nF9Buwc

А у нас в институте было несколько штук.. мы на нем примитивные микросхемы учились делать... И прослушек штук 300 закуячали на лабораторках, размером с копеючную монету... с примитивным шифрованием на АЧМ..

И продавали их по 25 баксов за штуку... Пока нас мордой в пол на Лубянку не привезли...

На этом мой первый бизинесс и закончился...

10 лет назад на производственных мощностях «Микрона» было запущено производство чипов по технологии 90 нм. Не сказать, чтобы проект был дешевым — на его реализацию было вложено 16,5 млрд руб., из которых «Ситроникс» и Роснано (участники проекта) инвестировали по 6,5 млрд руб., а еще 3 млрд руб. были привлечены в виде займа.

Зачетный попил бабла.

Дорогу осилит идущий.

Жаль только все "идущие" становятся милиардерами и сваливают за бугор, чтоб поливать потом Россию говном...

Примеры привести можешь?

Очередные новости из будущего.

Очередные новости из будущего.

А у вас есть какие-то большие сомнения, что люди из группы Константина Кошелева, которые собсна для ASML и создали источник экстремального ультрафиолета (13.5 нм) на лазерных импульсах в оловянной плазме ещё в нулевых смогут повторить свои собственные разработки двадцатилетней давности? Чтобы вы не подумали, что про двадцатилетней давности, это фигура речи, смотрите когда выдан US patent 6452194.

Примеры привести можешь?