Цитата:
Китай в лице хуавеевского HiSilicon'а осилил EUV-литографию. Это которая "глубокий ультрафиолет" и которая используется ASML для самых продвинутых чипоклепательных машин.

(зацените кстати топовую ASML-машину для работы с 300-мм пластинами, она на второй картинке. У литографического оборудования уже нотки стилистики Вархаммера 40000 прослеживаются, осталось только чтобы оттуда шагающие титаны выходили и силовое поле вокруг).
Хуавей покажет работу данного агрегата примерно к сентябрю, тогда же и будут данные по производительности, потребляемой мощности и прочему.
Сентябрь месяц волшебный и запросто может выйти так, что новинки Хуавея и Сяоми (презентации также в сентябре) будут уже на чипах на новой китайской литографии.

Китайцы любят такие шоу-ходы, чтобы тихонько подготовиться и внезапно вывалить готовый и впечатляющий результат; бывший министр торговли США Джина Раймондо, автор тезиса "Если не продавать китайцам ничего ниже 28nm, то они в жопе, т.к. это ж китайцы, они ничего не могут придумать сами" как-то вспоминала свой исторический визит в КНР в 2023, и задавалась вопросом "как так вышло, что пока я ехала из аэропорта, меня буквально преследовали рекламные постеры Huawei про новый мобильник на чипе Kirin 7nm". Ну потому что их специально повесили по ходу следования твоего кортежа, тётя, и на английском поэтому, это ж китайская служба протокола, они мастаки на такие дела.
Смешно будет, если через полгода выяснится, что Китай догнал по технонормам TSMC и вообще в итоге выстроил свою личную вертикаль импортозамещения электроники. Там тогда не просто пузырь инвестиций в цепочку ASML-TSMC-NVIDIA лопнет, там тектонические изменения на рынке будут.
Ключ к независимости в производстве чипов: Huawei тестирует передовой EUV-литограф, который сможет заменить «санкционные машины»
Массовый выпуск новых литографов запланирован на 2026 годКитай делает значительный шаг вперёд в разработке технологий экстремальной ультрафиолетовой (EUV) литографии, которая долгое время оставалась прерогативой нидерландской компании ASML. Новый литографический комплекс, проходящий тестирование на заводе Huawei в Дунгуане, использует инновационную технологию плазмы, индуцированной лазерным разрядом (LDP). Пробное производство системы намечено на третий квартал 2025 года, а массовый выпуск запланирован на 2026 год. Успех проекта способен разрушить техническую монополию ASML в области передовой литографии.
_large.jpg)
В отличие от метода ASML, основанного на лазерно-индуцированной плазме (LPP), китайская система LDP генерирует EUV-излучение с длиной волны 13,5 нм за счёт испарения олова между электродами и преобразования его в плазму с помощью высоковольтного разряда. Столкновения электронов и ионов в этой плазме создают необходимую длину волны. Такой подход обеспечивает ряд преимуществ: упрощённую архитектуру, меньшие габариты, повышенную энергоэффективность и, возможно, снижение производственных затрат по сравнению с технологией ASML, которая полагается на мощные лазеры и сложные системы управления.

Санкции США, ограничивающие поставки EUV-оборудования в Китай, ранее тормозили развитие местной полупроводниковой промышленности. Китайские компании были вынуждены использовать системы глубокой ультрафиолетовой (DUV) литографии с длинами волн 248 нм и 193 нм. Новая система Huawei с её 13,5-нм излучением может стать прорывным решением.
Коммерциализация EUV-литографии от Huawei бросит вызов доминированию ASML, чьи новейшие High-NA EUV-системы стоят около 380 миллионов долларов. Для Китая, несмотря на высокие затраты на разработку, собственная EUV-машина станет ключом к независимости в производстве чипов. Ведущие фабрики, такие как SMIC, уже сотрудничают с Huawei для интеграции новых сканеров в свои процессы, хотя создание полноценной производственной цепочки требует времени.
https://www.techpowerup.com/33 ... btcom 2025 год действительно может стать годом, когда многие китайские технологические компании ошеломят мир.