Китайская компания начала ограниченное серийное производство первых в Китае отечественных литографических систем глубокого ультрафиолетового диапазона (DUV)
️Китайская компания начала ограниченное серийное производство первых в Китае отечественных литографических систем глубокого ультрафиолетового диапазона (DUV)
Новость об этом обвалила более чем на 8% акции компании ASML, основного производителя современных литографических систем DUV, и торговля акциями ASML была временно приостановлена, в то время как акции компаний Applied Materials, Lam Research и KLA также снизились.
Ожидается, что около 5 таких установок будут поставлены китайским компаниям SMIC, Hua Hong и CXMT в 2026 году, а в 2027 году их количество увеличится до 20.
Эти установки предназначены для технологических процессов с разрешением 28 нм и могут поддерживать производство чипов класса 7 нм с использованием многократной экспозиции.
Издание The Information надеется, что это «не устраняет разрыв в технологиях EUV, необходимых для производства передовых чипов, но это реальный шаг к ослаблению американских и голландских экспортных ограничений на устаревшие и среднеуровневые технологические узлы».
В то же время, ряд китайских СМИ утверждает, что новые китайские литографические системы уже превосходят ASML.
Ожидается, что до конца 2026 года будет произведено около пяти единиц высокотехнологичных установок, предназначенных для крупнейших отечественных производителей микросхем.
Вице-премьер Госсовета КНР Дин Сюэсян (Ding Xuexiang).
Именно его в публичном поле и в аналитических материалах чаще всего указывают как главного куратора стратегии по технологическому суверенитету в полупроводниках, куда напрямую входит и задача развития отечественных DUV-литографов.
